В практике гальванопроизводства отработанные щелочные растворы часто сбрасываются, так как они являются дешевыми отходами. Однако, такие сбросы нарушают работу очистных сооружений: содержащиеся в обезжиривающих растворах эмульгированные, неэмульгированные и омыленные жиры и масла отравляют ионообменные смолы и мембраны, пассивируют электроды при электрохимических способах очистки, а также нарушают кислотно-щелочной баланс стоков, что при использовании реагентных методов очистки приводит к растворению гидроксидов и карбонатов тяжелых металлов и сбросу их в канализацию.[ ...]
В то же время регенерация таких растворов часто экономически невыгодна. Утилизация их при нейтрализации концентрированных сильнокислых растворов возможна, но не всегда из-за возможности применения для этих целей более дешевых реагентов и отсутствия четкой периодичности сброса отработанных растворов. Поэтому особый интерес представляют способы рекуперации в гальваническом производстве щелочных растворов, составы которых представлены в табл. 7.2.[ ...]
Ниже приведены схемы рекуперации отработанных растворов химического оксидирования стали (рис.7.4) и растворов удаления с магния оксидных пленок естественного, химического и анодного происхождения (рис.7.5).[ ...]
Отработанные растворы удаления оксидных пленок различного происхождения с магния, загрязненные гидроксидом магния, можно вторично использовать без какой либо обработки для приготовления новых растворов по схеме на рис.7.5. При этом образующийся осадок гидроксида магния отфильтровывают.[ ...]
Еще одним из наиболее распространенных щелочесодержащих растворов является раствор химического травления алюминия и его сплавов, схема возможной рекуперации которого представлена на рис.7.6.[ ...]
Рекуперация отработанного раствора травления алюминия может не иметь практического значения для гальванических цехов, где применяется технология травления алюминия в саморегулируемых растворах.[ ...]
Рисунки к данной главе:
Схема возможных путей вторичного использования (рекуперации) отработанных растворов удаления с магния оксидных пленок естественного, химического и анодного происхождения. |