Поиск по сайту:


Установка для очистки сточных вод процесса обработки сухих пленочных фоторезисторов

Установка для очистки сточных вод процесса обработки сухих пленочных фоторезисторов

1 — центробежные насосы; 2 — фильтры; 3 — рабочая емкость; 4 — промывочная емкость; 5 — ультрафильтрационные аппараты

Достаточно простая технологическая схема с использованием УФ (рис. 2.112) предложена для очистки сточных вод процесса обработки сухих пленочных фоторезисторов.

Скачать страницу

[Выходные данные]

Вернуться к оглавлению