![В основе методов удаления Ж)х, а также Ж)х и 80х с помощью влажной очистки, лежат следующие процессы [70, 71]: окисление-абсорбция; абсорбция-окисление; абсорбция-восстановление, а также сочетание первого с последним.](/static/pngsmall/900385034.png)
В основе методов удаления Ж)х, а также Ж)х и 80х с помощью влажной очистки, лежат следующие процессы [70, 71]: окисление-абсорбция; абсорбция-окисление; абсорбция-восстановление, а также сочетание первого с последним.
Скачать страницу
[Выходные данные]
![В основе методов удаления Ж)х, а также Ж)х и 80х с помощью влажной очистки, лежат следующие процессы [70, 71]: окисление-абсорбция; абсорбция-окисление; абсорбция-восстановление, а также сочетание первого с последним.](/static/pngbig/900385034.png)