Поиск по сайту:


Большое распространение получили пленочные выпарные аппараты. На рис. 54 показан выпарной аппарат с поднимающейся пленкой (при кипении раствора в трубках). Раствор, подлежащий выпариванию, поступает через штуцер 1 в нижнюю растворную камеру 8. Кипятильные трубки 7 заполняются раствором только на 1/4—1/. их высоты. При достижении температуры кипения в растворе бурно образуются пузырьки пара, которые, двигаясь вверх, увлекают за собой раствор, распределяя его тонким слоем по внутренней поверхности трубки. Процесс кипения в таких аппаратах характеризуется большим коэффициентом теплоотдачи к кипящему раствору. Это объясняется значительно мейьшим термическим сопротивлением ламинарного подслоя раствора у стенки трубы (вследствие высокой скорости вползания пленки) по сравнению с аппаратами, имеющими циркуляционную трубу.

Большое распространение получили пленочные выпарные аппараты. На рис. 54 показан выпарной аппарат с поднимающейся пленкой (при кипении раствора в трубках). Раствор, подлежащий выпариванию, поступает через штуцер 1 в нижнюю растворную камеру 8. Кипятильные трубки 7 заполняются раствором только на 1/4—1/. их высоты. При достижении температуры кипения в растворе бурно образуются пузырьки пара, которые, двигаясь вверх, увлекают за собой раствор, распределяя его тонким слоем по внутренней поверхности трубки. Процесс кипения в таких аппаратах характеризуется большим коэффициентом теплоотдачи к кипящему раствору. Это объясняется значительно мейьшим термическим сопротивлением ламинарного подслоя раствора у стенки трубы (вследствие высокой скорости вползания пленки) по сравнению с аппаратами, имеющими циркуляционную трубу.

Скачать страницу

[Выходные данные]