Поиск по сайту:


После высушивания адсорбента, приготовления II активирования тонких слоев из него по пластинкам пропускали этанол, затем их высушивали и адсорбент соскабливали и обрабатывали абсолютированным эталоном в течение 3 ч в аппарате Сокслета. Полученный раствор все же давал основной пик при 218 нм, хотя поглощение в диапазоне ог 260 до 340 нм значительно уменьшилось.

После высушивания адсорбента, приготовления II активирования тонких слоев из него по пластинкам пропускали этанол, затем их высушивали и адсорбент соскабливали и обрабатывали абсолютированным эталоном в течение 3 ч в аппарате Сокслета. Полученный раствор все же давал основной пик при 218 нм, хотя поглощение в диапазоне ог 260 до 340 нм значительно уменьшилось.

Скачать страницу

[Выходные данные]