Поиск по сайту:


Если и —скорость движения фронта кристаллизации и т — время релаксации электрических процессов во льду, то в системе лед—вода образуется некоторая толщина льда их с емкостью С, во столько раз превышающей емкость двойного слоя Сэ ф, во сколько раз их больше й, т. е.

Если и —скорость движения фронта кристаллизации и т — время релаксации электрических процессов во льду, то в системе лед—вода образуется некоторая толщина льда их с емкостью С, во столько раз превышающей емкость двойного слоя Сэ ф, во сколько раз их больше й, т. е.

Скачать страницу

[Выходные данные]