Поиск по сайту:


На радиохимических производствах поверхности оборудования и облицовок имеют высокие уровни радиоактивных загрязнений, поэтому успешное проведение дезактивации связано с рядом трудностей и хорошие результаты могут быть достигнуты только при использовании нескольких растворов. Так, например, для дезактивации оборудования, загрязненного радиоактивными изотопами — продуктами деления, последовательно применялись такие растворы [16, 45]: 10%-ная азотная кислота; 10%-ная лимонная кислота; 10%-ный раствор щелочи и 2,5%-ная винная кислота; 10%-ная щавелевая кислота; 0,003 М йодная кислота; раствор, содержащий 3% КаР и 20% Н1МОз. Такая сложная рецептура дезактивирующих растворов в радиохимических лабораториях применяется редко. Например, дезактивация стенок защитных камер, загрязненных изотопами — продуктами деления, производилась такими растворами [16, 46]: 0,04 М КМп04 + 0,5 М НЫ03; 1 М ЫаЫ02 + +1 М НШ3.

На радиохимических производствах поверхности оборудования и облицовок имеют высокие уровни радиоактивных загрязнений, поэтому успешное проведение дезактивации связано с рядом трудностей и хорошие результаты могут быть достигнуты только при использовании нескольких растворов. Так, например, для дезактивации оборудования, загрязненного радиоактивными изотопами — продуктами деления, последовательно применялись такие растворы [16, 45]: 10%-ная азотная кислота; 10%-ная лимонная кислота; 10%-ный раствор щелочи и 2,5%-ная винная кислота; 10%-ная щавелевая кислота; 0,003 М йодная кислота; раствор, содержащий 3% КаР и 20% Н1МОз. Такая сложная рецептура дезактивирующих растворов в радиохимических лабораториях применяется редко. Например, дезактивация стенок защитных камер, загрязненных изотопами — продуктами деления, производилась такими растворами [16, 46]: 0,04 М КМп04 + 0,5 М НЫ03; 1 М ЫаЫ02 + +1 М НШ3.

Скачать страницу

[Выходные данные]